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Raith

更新時(shí)間：2025-11-05    瀏覽量：49

產(chǎn)品描述：Raith 電子束光刻儀產(chǎn)品介紹 EBPG系列采用高能電子束直寫技術(shù)，在硅片、化合物半導(dǎo)體等基底上實(shí)現(xiàn)納米級(jí)圖形制作。儀集成激光定位和溫度補(bǔ)償模塊，支持最大8英寸晶圓加工。

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公司簡(jiǎn)介 

Raith GmbH 是德國(guó)納米技術(shù)設(shè)備制造商，成立于1999年，專注于電子束和離子束加工儀的研發(fā)生產(chǎn)，產(chǎn)品服務(wù)于微納結(jié)構(gòu)制備領(lǐng)域。 

 

Raith 電子束光刻儀產(chǎn)品類型 

1. 電子束光刻儀

2. 聚焦離子束儀

3. 納米操縱設(shè)備 

4. 電子顯微鏡配件 

5. 光刻膠處理設(shè)備 

6. 圖形發(fā)生器 

7. 納米定位平臺(tái) 

 

Raith 電子束光刻儀主要型號(hào)  

1. EBPG 5200 

2. EBPG 5150 

3. EBPG 5000+ 

4. EBPG 4000 

5. EBPG Custom（定制型） 

 

Raith 電子束光刻儀產(chǎn)品介紹 

EBPG系列采用高能電子束直寫技術(shù)，在硅片、化合物半導(dǎo)體等基底上實(shí)現(xiàn)納米級(jí)圖形制作。儀集成激光定位和溫度補(bǔ)償模塊，支持最大8英寸晶圓加工。 

 

Raith 電子束光刻儀技術(shù)參數(shù)（依據(jù)行業(yè)典型規(guī)格）： 

- 電子束加速電壓：10-100 kV 

- 束斑尺寸：<10 nm（典型值） 

- 定位精度：±15 nm 

- 書寫場(chǎng)尺寸：50 μm至1 mm 

- 最大基片尺寸：8英寸 

- 數(shù)據(jù)格式：GDSII/OASIS 

 

Raith 電子束光刻儀工作原理：電子槍發(fā)射電子束，經(jīng)電磁透鏡聚焦后，通過偏轉(zhuǎn)儀控制束斑在涂覆光刻膠的基片上掃描，通過化學(xué)顯影形成微納結(jié)構(gòu)。 

 

Raith 電子束光刻儀優(yōu)勢(shì)特點(diǎn) 

1. 高分辨率圖形制作能力 

2. 多尺度加工適應(yīng)性 

3. 模塊化結(jié)構(gòu)便于功能擴(kuò)展 

4. 溫度漂移補(bǔ)償穩(wěn)定性較好 

 

Raith 電子束光刻儀主要應(yīng)用 

1. 半導(dǎo)體器件研發(fā)原型制作 

2. 光子晶體結(jié)構(gòu)制備 

3. 納米電極陣列加工 

4. 量子器件研究 

5. 掩模板修復(fù)

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